制药厂恶臭废气净化主要用于工厂产生臭气的脱臭净化、消毒杀菌，经本设备净化后气体达到《大气污染物综合排放标准》（GB16297-1996）和《恶臭污染物排放标准》（GGB14554-1993）。

　　制药厂恶臭废气净化使用环境：

   温度：摄氏-30℃－95℃    PH值：3-11 

　　
　　制药厂恶臭废气净化产品技术简介
　　
　　1、本产品利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体，裂解恶臭气体如：氨、*胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC类，苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如CO2、H2O等。
　　
　　2、利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。UV＋O2→O- O＊(活性氧)O O2→O3(臭氧),*臭氧对有机物具有*的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有*的清除效果。
　　
　　3、恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后，净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应，使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。
　　
　　4、利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，*达到脱臭及杀灭细菌的目的．
　　
　　它具有适应性强、运行成本低、设备占在面积小等特点，应该应用于炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾转运站、餐厨垃圾处理厂、饲料厂、印染厂、喷涂厂等各种有污染源恶臭气体的脱臭净化。